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Ermittlung und Optimierung von elektrischen, geometrischen und technologischen Parametern der ION´X Planar Magnetron Sputtering Cathode IX5 91xx in der Laborzerstäubungsanlage MSBA-400 für Aluminium, Silizium und Siliziumdioxid

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Metadaten
Author:Silvio Nerger
URN:urn:nbn:de:bsz:mit1-opus-25396
Advisor:Steffen Weißmantel, Harald Pötzsch
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2012/12/17
Release Date:2012/12/17
GND Keyword:Sputtern
Institutes:03 Mathematik / Naturwissenschaften / Informatik
DDC classes:620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Open Access:Innerhalb der Hochschule
Licence (German):License LogoUrheberrechtlich geschützt