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Prozessvergleich zur Nutzung von kurzgepulster und kontinuierlicher Bestrahlung im Mikro-SLM

Process comparison between the application of short pulsed and continuous wave laser emission in micro-SLM

  • Die vorliegende Arbeit befasst sich mit einem umfassenden Vergleich der Verwendung von kurz gepulster und kontinuierlicher Laserstrahlung im Mikro-SLM. Nach Charakterisierung der genutzten Bestrahlungsregime werden in Einzelspuruntersuchungen Unterschiede und deren Ursachen hinsichtlich der Schmelzspurbildung zwischen gepulster und kontinuierlicher Bestrahlung betrachtet und diskutiert. Der Bereich geeigneter Prozessparameter wird in Mehrspuruntersuchungen ergänzt. Des Weiteren wird der Einfluss verschiedener Bestrahlungsregime auf die Bauteileigenschaften von Volumenkörpern untersucht.

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Metadaten
Author:Laura Römer
Advisor:André Streek, Martin Erler
Document Type:Master's Thesis
Language:German
Year of Completion:2022
Granting Institution:Hochschule Mittweida
Release Date:2023/06/16
GND Keyword:Ultrakurzer Lichtimpuls; Impulslaser
Page Number:125
Institutes:Ingenieurwissenschaften
DDC classes:621.366 Laser, Lasertechnologie
Open Access:Frei zugänglich
Licence (German):License LogoUrheberrechtlich geschützt