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Konzipierung und Untersuchung eines Reinigungsprogrammes für Binärmasken an einer Mehrkammeranlage

Development and investigation of a cleaning program for binary masks at a multichamber tool

  • Gegenstand dieser Arbeit ist die Entwicklung eines Reinigungsprogrammes für Binärmasken des Formates 6025 an einer Mehrkammeranlage. Sowie dessen Vergleich mit einem etablierten Prozess an einer Einkammeranlage, um über den weiteren Einsatz der Mehrkammeranlage zu entscheiden.

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    deu

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Metadaten
Author:Mirko Schmidt
Advisor:Gerd Dost, Harald Stümer
Document Type:Bachelor Thesis
Language:German
Year of Completion:2015
Granting Institution:Hochschule Mittweida
Release Date:2024/09/04
GND Keyword:Reinigungsverfahren; Maske <Halbleitertechnologie>; Fotolithografie <Halbleitertechnologie>
Note:
Sperrvermerk gelöscht am 19.08.24
Institutes:01 Elektro- und Informationstechnik
DDC classes:621.38152 Halbleitertechnologie, Dünnschichttechnik
Open Access:Innerhalb der Hochschule
Licence (German):License LogoUrheberrechtlich geschützt