Konzipierung und Untersuchung eines Reinigungsprogrammes für Binärmasken an einer Mehrkammeranlage
Development and investigation of a cleaning program for binary masks at a multichamber tool
- Gegenstand dieser Arbeit ist die Entwicklung eines Reinigungsprogrammes für Binärmasken des Formates 6025 an einer Mehrkammeranlage. Sowie dessen Vergleich mit einem etablierten Prozess an einer Einkammeranlage, um über den weiteren Einsatz der Mehrkammeranlage zu entscheiden.
Author: | Mirko Schmidt |
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Advisor: | Gerd Dost, Harald Stümer |
Document Type: | Bachelor Thesis |
Language: | German |
Year of Completion: | 2015 |
Granting Institution: | Hochschule Mittweida |
Release Date: | 2024/09/04 |
GND Keyword: | Reinigungsverfahren; Maske <Halbleitertechnologie>; Fotolithografie <Halbleitertechnologie> |
Note: | Sperrvermerk gelöscht am 19.08.24 |
Institutes: | 01 Elektro- und Informationstechnik |
DDC classes: | 621.38152 Halbleitertechnologie, Dünnschichttechnik |
Open Access: | Innerhalb der Hochschule |
Licence (German): | Urheberrechtlich geschützt |