Prozessvergleich zur Nutzung von kurzgepulster und kontinuierlicher Bestrahlung im Mikro-SLM
Process comparison between the application of short pulsed and continuous wave laser emission in micro-SLM
- Die vorliegende Arbeit befasst sich mit einem umfassenden Vergleich der Verwendung von kurz gepulster und kontinuierlicher Laserstrahlung im Mikro-SLM. Nach Charakterisierung der genutzten Bestrahlungsregime werden in Einzelspuruntersuchungen Unterschiede und deren Ursachen hinsichtlich der Schmelzspurbildung zwischen gepulster und kontinuierlicher Bestrahlung betrachtet und diskutiert. Der Bereich geeigneter Prozessparameter wird in Mehrspuruntersuchungen ergänzt. Des Weiteren wird der Einfluss verschiedener Bestrahlungsregime auf die Bauteileigenschaften von Volumenkörpern untersucht.
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| Author: | Laura Römer |
|---|---|
| Advisor: | André Streek, Martin Erler |
| Document Type: | Master's Thesis |
| Language: | German |
| Year of Completion: | 2022 |
| Granting Institution: | Hochschule Mittweida |
| Release Date: | 2023/06/16 |
| GND Keyword: | Ultrakurzer Lichtimpuls; Impulslaser |
| Page Number: | 125 |
| Institutes: | Ingenieurwissenschaften |
| DDC classes: | 621.366 Laser, Lasertechnologie |
| Open Access: | Frei zugänglich |
| Licence (German): |  Urheberrechtlich geschützt |
